本篇文章重要来聊一聊由清华SSMB-EUV引发的几个热点话题。

第一个热点话题，清华大学的SSMB-EUV可无法以作为EUV光刻机的光源？实践过去说是齐全没疑问的。清华大学唐传祥传授在《稳态微聚束减速器光源》这篇论文当中曾经比拟详细地论述了SSMB的原理、试验验证、外围疑问及应战还有SSMB在芯片光刻当中的运行后劲。并且与LPP、SR（同步辐射光源）、SRF-FEL（基于射频超导直线减速器的自在电子激光器）等光源做完对比之后发现，SSMB作为EUV光刻机的光源出现器是有必定长处的。比如，高平均功率、窄带宽与高准直性、高稳固性延续波输入、辐射清洁还有可拓展性。详细内容就不再赘述了，大家有兴味可以去知网自己搜查下载。

这么一看，对比ASML的LPP-EUV路途，SSMB-EUV路途的长处还是十分大的。那么是不是象征着SSMB可以代替LPP-EUV呢？

答案是，极难无比。 我知道你很急，但你先别急。

原理可行并不象征着工程可行。从原理到工程两边存在着有限多的难题。SSMB如今只是从纯模拟进入到了试验阶段。 到目前为止，也仅仅只是证明了在贮存环上，电子微聚束结构能够跑一圈。 但是跑1000圈，10000圈，乃至几秒的稳固性都还没有启动过测试。这么大的装置，又是和以前的直线减速器齐全不同的运作原理。而后又加了一大堆其余的设施和装置，如何保障SSMB的稳固运转才是最大的难题。

光刻机关于光源的稳固性要求是依照“年”来计算，而不是秒。大家或许觉得，清华要到雄安建SSMB大装置就说明要进入产业化运行了。但是实践上，就算大装置建起来了也还是在科研的范围外面，还远远没有到达工程运行的阶段。那么，距离实践工程运行的阶段还有多远呢？不知道，距离无法预计。

第二个热点话题，是从SSMB引申到同步辐射光源之后演变进去的一个话题，叫做“光刻工厂”。这个所谓的“光刻工厂”其实是比SSMB的流传才干更强，由于这个物品可以让人愈加的沸腾。那么雷同的疑问又来了，“光刻工厂”能否可行？ 答案和SSMB差不多，实践可行，但简直不具有产业化的才干。

先不提把光刻机大型化之后对整个产线的改形老本会有多少这件事儿，“光刻工厂”自身是存在一个渺小毛病的，那就是晶圆厂最禁忌的事件之一：单机台，Single tool。普通来讲，假设一条产线某一个工艺段只用了一台设施，那就象征着这条产线的产能有限。是很难满足消费级芯片那种上千万需求的。

我知道这里大家会有疑问，“光刻工厂”明明是N多条产线啊？没错，确实是N多条产线。但是“光刻工厂”的光源只要一个，这比产线上某一个工艺段用单机台的状况还可怕。这曾经不是便捷的Single Tool了，这是Single Source，繁多源头。

只需“光刻工厂”的光源出现疑问，整个工厂都得宕机。这种状况下，不论是主动让设施停上去保养，还是设施出疑问时刻的主动宕机都会让整个芯片消费环节变得极端无法控。消费无法控就象征着效率无法控。效率无法控就象征着老本无法控。老本无法控就象征着产业界或许永远无法接受所谓的“光刻工厂”。

那这时刻就会有人说了，这和睦停电一样？停电也会造成消费暂停啊？没错，停电确实会造成消费暂停。但是大家想一想，都曾经有电力这么一个不稳固起因了，还要继续减少“繁多光源”这样一个更不稳固的起因到消费环境当中，这合乎工程逻辑么？显然是不合乎的。

所以，不论是SSMB或许同步辐射光源，在未来相当长的一段期间内都只能在科研畛域发光发热，很难用在半导体这种讲求极致效率和老本的畛域。

第三个热点话题，其实也不算热点了，就是单纯从以上两个话题引申进去的话题，下一代光刻技术究竟应该是个啥？很可怜的是，目前学术界和工业界都在钻研当中，齐全没有构成分歧意见。由于有这么几个疑问还困扰着大家：

1、未来芯片将如何开展;

2、这样的芯片在确保丰盛配置的前提下如何低老本超大规模制作;

3、下一代光刻技术如何处置紫外光刻技术路途面临的两个严重应战（造价高昂、量子极限）;

4、工业界如何低老本地从现有的第五代极紫外光刻机过渡到下一代光刻机。

没人知道未来的芯片应该是什么样子。所以下一代光刻技术究竟是啥，也没人知道。大家都在钻研，都在试。比如纳米压印啊，第六代双光束超分辨光刻机啊，其实也都是在以后芯片框架下的致力。

碳基芯片、量子芯片的距离还太过悠远。就像前面说的，这两种芯片目前还是在科研阶段。距离真正的产业化还须要太长太长期间，以致于齐全没法预计啥时刻可以产业化。

那么最后一个热点话题，就是咱们自己的EUV光刻机做得咋样了。说瞎话，不知道。相比于国产DUV光刻机有不少消息源可以佐证进度，国产EUV光刻机基本上就是个迷。如今惟一可以确定的是，有联结体正在复刻ASML的LPP路途。至于什么时刻能进去，兴许从ASML总裁的发言可以略窥一二。

2020年之前，【否定】，“就算给你完整图纸，你也造不进去光刻机。”

2022年1月，【犹疑】“中国不太或许独立研制出顶级光刻技术，但他们必定会尝试的。”

2023年4月上旬，【愤怒】，“中国自研光刻机是破坏世界芯片产业链。”

2023年4月底，【斗争】，“ASML进入中国市场是相对必要的。”

2023年5月，【无奈】，“美国半导体公司不能列席中国市场。”

2023年9月，【丧气】，“咱们太自以为是了。”

我团体觉得啊，如今咱们对EUV光刻机的需求倒也没有像以前那么迫切了。麒麟9000s进去以后，我甚至觉得假设国产DUV光刻机可以做到ASML 2050i的水平，过两代的麒麟兴许真的可以追上高通和苹果也说不定。台积电那边的制程提高速度放缓了十分多，或许最近2-3年都只能停在N3节点，这给了国际晶圆厂追逐的时机。

但也不是说不须要EUV光刻机了。毕竟有了EUV光刻机，不只可以摸一摸更先进的制程，更关键的是良率可以做得更高，成本来得更低。

总的来看，国际半导体产业链提高的速度超越一切人的构想。快到连美国都没反响过去，就曾经把Mate60糊在雷蒙多的脸上了。是善报儿，可以沸腾一下。但也别太沸腾，乱搞一些不实际践的物品。当然，假设都是战忽局的策略，我以为是十分正当的。